光学纳米计量与测试-同济大学精密光学工程技术研究所

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光学纳米计量与测试

“米”是国际7个基本单位之一。纳米科技是现代科学与技术进步的重要引擎。纳米科技的关键是“纳米尺度”，对“纳米”的长度计量、测试与控制是发展纳米科技的基石。本方向研究自然常数的物化原理与方法，研制高精度光栅标准物质，发展超精密位移测试技术，立足于构建自溯源型的纳米长度计量体系，实现量值传递扁平化。

王占山和程鑫彬团队在《Measurement Science and Technology》期刊发表“Study of interferometric signal correction methods in ultra-precision displacement measurement”文章

2024-04-09

科研方向Research directions

科研团队Research team

教师团队查看更多: 程鑫彬
职称：教授
程鑫彬，同济大学物理科学与工程学院教授、博士生导师，精密光学工程技术研究所所长，国家杰出青年基金获得者，获国家技术发明奖二等奖，获得中国专利金奖，激光薄膜技术实现成果转化。主要从事微纳智能感知、强激光器件和纳米计量方面的研究。承担国家重大科技专项、国家重点研发计划、国家自然科学基金等科研项目十余项，以第一/通讯作者发表Science Advances、Light: Science & Applications、Optica、等四十余篇文章。

邓晓
职称：长聘副教授
邓晓，同济大学物理科学与工程学院长聘副教授，国家高层次青年人才，博士生导师。先后入选中国科协“第六届青年人才托举工程”、上海市“科技创新行动计划”启明星人才，上海市“东方英才”（青年）等。研究方向为集成电路计量测试技术，包括铬原子光刻，超精密光频梳、光栅干涉仪，计量型仪器、MOEMS相对重力仪与加速度计等方面。作为项目负责人主持国家重点研发计划项目、面上项目多项。研制国家一级标准物质5项（包含中国首个纳米角度一级标准物质），国家二级标准物质2项，发表SCI论文35篇，EI论文20篇；申请美国发明专利2项（授权1项）；申请中国发明专利23项（授权9项）；完成软件著作权登记4项。主要开展《普通物理》课程教学，先后获2023年同济大学青年教师教学竞赛一等奖、2024年同济大学“教书育人先进奖”——英才新秀奖。同时担任全国新材料与纳米计量技术委员会委员、上海市计量测试学会力学分会主任委员、中国仪器仪表学会集成电路测量与仪器分会委员、《红外与激光工程》与《计量学报》期刊青年编委等。

李同保
职称：院士
李同保，同济大学物理与科学工程学院教授，博士生导师，中国首批工程院院士。

王占山
职称：教授
王占山，精密光学工程技术研究所创始人，同济大学先进技术研究院院长，同济大学高等研究院执行副院长，同济大学学术委员会秘书长，先进微结构材料教育部重点实验室主任，上海市数字光学前沿科学研究基地主任，上海市全光谱高性能光学薄膜器件与应用专业技术服务平台主任，国家某重大专项专家委员会委员，国家自然科学基金委员会信息学部咨询委委员，国家重点研发技术专家组成员；上海市第十次党代会代表，国际光学与光子学学会会士（SPIE Fellow），中国光学学会会士，中国光学学会理事会理事，中国光学工程学会常务理事，中国光学学会光学薄膜专业委员会副主任，物理科学与工程学院教授，教育部长江学者特聘教授，先后主持了国家自然科学基金重大、创新研究群体、杰出青年基金、国家重大专项、重点研发计划等项目，先后发表Light，Optical Letters等SCI收录论文200余篇，获授权专利100余项，其中“一种激光薄膜的制备方法”获2018年中国专利金奖，含该专利在内的5项专利实现转让，获收益3800万元。2019年获国家技术发明奖二等奖（排名1），2016年获国家技术发明奖二等奖（排名2），2021年获中国仪器仪表学会技术发明奖一等奖（排名1），2015年获教育部技术发明奖一等奖（排名1），2011年获上海市技术发明奖二等奖（排名1）。多次在境外国际会议上有邀请报告，担任多个境外国际会议程序委员会委员。任《光子学报》副主编，《光学学报》、《光学精密工程》、《中国光学》编委。

解钰莹
职称：博士后
解钰莹，同济大学物理科学与工程学院博士后，从事微纳加工技术、集成电路标准物质研制与定值等方面的研究。

薛栋柏
职称：博士后
薛栋柏，同济大学物理科学与工程学院博士后，主要从事光学纳米计量及光栅制造研究，在Nanophotonics, Applied Optics等国内外相关专业期刊以第一作者或共同一作/通讯发表文章3篇，授权国家发明专利1项。

学生团队查看更多

李雪晗
范宇航
林紫钰
沈俊宇
王明伟

科研成果 Research achievements

论文与专著查看更多

Fabrication of 53.2 nm pitch self-traceable gratings by laser-focused atomic deposition combined with extreme ultraviolet interference lithography

Zhaohui Tang, Jun Zhao, Xiao Deng, Wen Tan, Yanqing Wu, Renzhong Tai, Xinbin Cheng, Tongbao Li, Optik, 2023, 279(170735)

DOI：10.1016/j.ijleo.2023.170735

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Scanning and Splicing Atom Lithography for Self-traceable Nanograting Fabrication

Deng Xiao, Tan Wen, Tang Zhaohui, et al， Nanomanuf Metrol 5, 179–187（2022）

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Critical dimension scanning electron microscope characterization of smoothly varying wave structures with MC simulation

Muhammad Saadat Shakoor Khan, Yang Lihao, Deng Xiao, et al, Journal of Physics D: Applied Physics, 2021, 54(44):445301 (14pp).

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A new type of nanoscale reference grating manufactured by combined laser-focused atomic deposition and x-ray interference lithography and its use for calibrating a scanning electron microscope

Deng Xiao, Dai Gaoliang, Liu Jie, et al, Ultramicroscopy, 2021,226.

DOI： 10.1016/j.ultramic.2021.113293

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Hybrid application of laser-focused atomic deposition and extreme ultraviolet interference lithography methods for manufacturing of self-traceable nanogratings

Liu Jie, Zhao Jun, Deng Xiao, et al, Nanotechnology, 2021, 32(17):175301-.

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Self-traceable nano-grating frequency doubling based on polarization gradient light field

Wang Xinpan, Deng Xiao, Cai Yanni, et al. Proc Spie, 2020, 11617.

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