科学研究

光学纳米计量与测试

“米”是国际7个基本单位之一。纳米科技是现代科学与技术进步的重要引擎。纳米科技的关键是“纳米尺度”,对“纳米”的长度计量、测试与控制是发展纳米科技的基石。本方向研究自然常数的物化原理与方法,研制高精度光栅标准物质,发展超精密位移测试技术,立足于构建自溯源型的纳米长度计量体系,实现量值传递扁平化。

科研团队Research team

教师团队查看更多

程鑫彬

职称:教授

程鑫彬,同济大学物理科学与工程学院院长、精密光学工程技术研究所所长,国家杰出青年科学基金获得者,现任国家集成电路微纳检测设备产业计量测试中心(上海)(筹)主任。长期致力于纳米计量和微纳光学交叉研究,主持国家重大科技专项、国家重点研发计划、国家自然科学基金、上海张江重大专项等科研项目,以第一/通讯作者在Light:Science&Applications、Science Advances、0ptica等期刊发表论文50余篇,在 OSA、SPIE顶级会议做特邀报告20余次。先后获教育部技术发明奖一等奖、国家技术发明奖二等奖、中国计量测试学会科技进步一等奖等奖项,并担任 IS0 国际标准化组织光学材料与器件委员会委员,中国计量测试学会理事,《Fundamental Research》、《强激光与粒子束》等核心期刊编委。 程鑫彬教授在纳米计量领域取得系统性突破,研制5项国家一级标准物质(覆盖我国400nm以下全部5项国家一级标准物质,截止2025年7月),主导修订微纳米尺度校准规范,填补国内面向集成电路微纳检测领域多项空白;研发了量子化光晶格常数纳米计量新技术,推动纳米计量溯源链扁平化与测量精度跨越式提升。以第一完成人获上海市科技进步奖一等奖、中国计量测试学会科技进步奖一等奖,相关成果以通讯作者身份发表于Measurement Science and Technology等计量学顶级期刊。

邓晓

职称:长聘副教授

邓晓,同济大学物理科学与工程学院长聘副教授,国家高层次青年人才,博士生导师,国家集成电路微纳检测设备产业计量测试中心(上海)副主任。研究方向为集成电路计量测试技术,包括集成电路标准物质、铬原子光刻、超精密光频梳、光栅干涉仪、计量仪器、晶圆级标准片、MOEMS相对重力仪与加速度计等方面。作为项目负责人主持国家重点研发计划项目、面上项目多项。研制国家一级标准物质5项(包含中国首个纳米角度一级标准物质),国家二级标准物质2项,发表SCI论文50余篇;申请美国发明专利3项(授权1项);申请中国发明专利23项(授权9项)。科研成果获2024年上海市科技进步奖一等奖(排名第2)、2024年中国计量测试学会科技进步奖一等奖(排名第2)。作为上海市教委“集成电路计量测试技术”研究生专项班与本科生微专业建设具体负责人,主要开展《集成电路计量测试》、《普通物理》等课程教学,获2025年全国高等学校物理基础课程青年教师讲课比赛(华东地区复赛)特等奖。同时担任全国新材料与纳米计量技术委员会委员、上海市计量测试学会力学分会主任委员、中国仪器仪表学会集成电路测量与仪器分会委员、《红外与激光工程》与《计量学报》期刊青年编委等。国家集成电路微纳检测设备产业计量测试中心(上海)网站:https://cyjl.nim.ac.cn/nmtcics

王占山

职称:教授

王占山,精密光学工程技术研究所创始人,同济大学先进技术研究院院长,同济大学高等研究院执行副院长,同济大学学术委员会秘书长,先进微结构材料教育部重点实验室主任,上海市数字光学前沿科学研究基地主任,上海市全光谱高性能光学薄膜器件与应用专业技术服务平台主任,国家某重大专项专家委员会委员,国家自然科学基金委员会信息学部咨询委委员,国家重点研发技术专家组成员;上海市第十次党代会代表,国际光学与光子学学会会士(SPIE Fellow),中国光学学会会士,中国光学学会理事会理事,中国光学工程学会常务理事,中国光学学会光学薄膜专业委员会副主任,物理科学与工程学院教授,教育部长江学者特聘教授,先后主持了国家自然科学基金重大、创新研究群体、杰出青年基金、国家重大专项、重点研发计划等项目,先后发表Light,Optical Letters等SCI收录论文200余篇,获授权专利100余项,其中“一种激光薄膜的制备方法”获2018年中国专利金奖,含该专利在内的5项专利实现转让,获收益3800万元。2019年获国家技术发明奖二等奖(排名1),2016年获国家技术发明奖二等奖(排名2),2021年获中国仪器仪表学会技术发明奖一等奖(排名1),2015年获教育部技术发明奖一等奖(排名1),2011年获上海市技术发明奖二等奖(排名1)。多次在境外国际会议上有邀请报告,担任多个境外国际会议程序委员会委员。任《光子学报》副主编,《光学学报》、《光学精密工程》、《中国光学》编委。

科研成果 Research achievements

论文与专著查看更多
  • Fabrication of 53.2 nm pitch self-traceable gratings by laser-focused atomic deposition combined with extreme ultraviolet interference lithography

    Zhaohui Tang, Jun Zhao, Xiao Deng, Wen Tan, Yanqing Wu, Renzhong Tai, Xinbin Cheng, Tongbao Li, Optik, 2023, 279(170735)

    DOI:10.1016/j.ijleo.2023.170735

    Related Articles
    https://authors.elsevier.com/c/1gjRn6wQfYrR6

  • Scanning and Splicing Atom Lithography for Self-traceable Nanograting Fabrication

    Deng Xiao, Tan Wen, Tang Zhaohui, et al, Nanomanuf Metrol 5, 179–187(2022)

    DOI:10.1007/s41871-022-00140-y

    Related Articles
    https://doi.org/10.1007/s41871-022-00140-y

  • Critical dimension scanning electron microscope characterization of smoothly varying wave structures with MC simulation

    Muhammad Saadat Shakoor Khan, Yang Lihao, Deng Xiao, et al, Journal of Physics D: Applied Physics, 2021, 54(44):445301 (14pp).

    DOI:10.1088/1361-6463/ac0de5

    Related Articles
    https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6463/ac0de5

  • A new type of nanoscale reference grating manufactured by combined laser-focused atomic deposition and x-ray interference lithography and its use for calibrating a scanning electron microscope

    Deng Xiao, Dai Gaoliang, Liu Jie, et al, Ultramicroscopy, 2021,226.

    DOI: 10.1016/j.ultramic.2021.113293

    Related Articles
    https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2021.113293

奖励与专利 查看更多

二维铬纳米栅格标准物质

一维硅纳米光栅标准物质

一维铬纳米光栅标准物质

多结构硅纳米线宽标准物质

一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法

一种二维原子光刻栅格结构制备方法

青年人才托举工程

一种用于实现分步沉积型二维原子光刻的装置

科研条件 research condition