本方向具有近千核心CPU，15T内存仿真计算资源以及自主可控的高效率光场仿真工业基础软件，可满足微纳光学器件、宏微集成光学系统的快速仿真和设计；拥有6英寸甩胶机、8英寸高精度电子束光刻系统、低温反应离子刻蚀系统、原子层沉积等微纳光学器件制造核心设备以及扫描电子显微镜、原子力显微镜、角分辨测试系统等测试平台，具备强大的微纳结构制造与表征能力。
