科学研究

微纳光学器件与集成应用

本方向致力于研究晶圆级微纳光学器件的调控机理、器件设计、制造表征和集成应用。研究方向聚焦于光场调控理论、计算电磁学、微纳加工技术以及片上集成应用等。

科研队伍Research team

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李浩然

2018级博士研究生

散射机理与测试表征

梁海刚

2019级博士研究生

高效率超构表面逆向设计

李程峰

2020级博士研究生

超构表面的设计,加工及应用

梁晓佳

2020级博士研究生

超表面

李书桥

2021级博士研究生

片上

徐伟杰

2021级博士研究生

深度学习超表面逆设计及超表面数值仿真计算

冯超

2021级博士研究生

高效率超构表面设计和加工

罗毅杰

2021级博士研究生

微波超表面的高效率异常反射

宁燚

2021级博士研究生

超表面设计和制备

罗栩豪

2021级博士研究生

光学超构表面设计、加工及应用

李浩昱

2022级博士研究生

片上光计算超表面设计与数值仿真计算

豆淋源

2022级博士研究生

片上超表面设计与数值仿真计算

饶晓峰

2022级博士研究生

超构表面光场调控,连续域中的束缚态

马志远

2022级博士研究生

非线性超表面设计与数值仿真计算

罗洪

2022级博士研究生

光流控光镊操控

陆澄锋

2022级博士研究生

光流控光镊操控

刘亮

2022级博士研究生

微纳加工技术

刘岳晨

2021级硕士研究生

超表面设计和加工

李育朗

2022级硕士研究生

物理光学以及高频算法

童佳琪

见习本科生

科研条件

本方向具有近千核心CPU,15T内存仿真计算资源以及自主可控的高效率光场仿真工业基础软件,可满足微纳光学器件、宏微集成光学系统的快速仿真和设计;拥有6英寸甩胶机、8英寸高精度电子束光刻系统、低温反应离子刻蚀系统、原子层沉积等微纳光学器件制造核心设备以及扫描电子显微镜、原子力显微镜、角分辨测试系统等测试平台,具备强大的微纳结构制造与表征能力。

科研文化 Research culture