科学研究

光学纳米计量与测试

“米”是国际7个基本单位之一。纳米科技是现代科学与技术进步的重要引擎。纳米科技的关键是“纳米尺度”,对“纳米”的长度计量、测试与控制是发展纳米科技的基石。本方向研究自然常数的物化原理与方法,研制高精度光栅标准物质,发展超精密位移测试技术,立足于构建自溯源型的纳米长度计量体系,实现量值传递扁平化。

科研团队Research team

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王占山

职称:教授

王占山,精密光学工程技术研究所创始人,同济大学先进技术研究院院长,同济大学高等研究院执行副院长,同济大学学术委员会秘书长,先进微结构材料教育部重点实验室主任,上海市数字光学前沿科学研究基地主任,上海市全光谱高性能光学薄膜器件与应用专业技术服务平台主任,国家某重大专项专家委员会委员,国家自然科学基金委员会信息学部咨询委委员,国家重点研发技术专家组成员;上海市第十次党代会代表,国际光学与光子学学会会士(SPIE Fellow),中国光学学会会士,中国光学学会理事会理事,中国光学工程学会常务理事,中国光学学会光学薄膜专业委员会副主任,物理科学与工程学院教授,教育部长江学者特聘教授,先后主持了国家自然科学基金重大、创新研究群体、杰出青年基金、国家重大专项、重点研发计划等项目,先后发表Light,Optical Letters等SCI收录论文200余篇,获授权专利100余项,其中“一种激光薄膜的制备方法”获2018年中国专利金奖,含该专利在内的5项专利实现转让,获收益3800万元。2019年获国家技术发明奖二等奖(排名1),2016年获国家技术发明奖二等奖(排名2),2021年获中国仪器仪表学会技术发明奖一等奖(排名1),2015年获教育部技术发明奖一等奖(排名1),2011年获上海市技术发明奖二等奖(排名1)。多次在境外国际会议上有邀请报告,担任多个境外国际会议程序委员会委员。任《光子学报》副主编,《光学学报》、《光学精密工程》、《中国光学》编委。

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  • 王竣

    见习本科生

  • 2023级硕士研究生

    2023级硕士研究生

  • 唐朝辉

    2019级博士研究生

  • 林子超

    2020级博士研究生

  • 谢张宁

    2021级博士研究生

科研成果 Research achievements

论文与专著查看更多
  • Fabrication of 53.2 nm pitch self-traceable gratings by laser-focused atomic deposition combined with extreme ultraviolet interference lithography

    Zhaohui Tang, Jun Zhao, Xiao Deng, Wen Tan, Yanqing Wu, Renzhong Tai, Xinbin Cheng, Tongbao Li, Optik, 2023, 279(170735)

    DOI:10.1016/j.ijleo.2023.170735

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    https://authors.elsevier.com/c/1gjRn6wQfYrR6

  • Scanning and Splicing Atom Lithography for Self-traceable Nanograting Fabrication

    Deng Xiao, Tan Wen, Tang Zhaohui, et al, Nanomanuf Metrol 5, 179–187(2022)

    DOI:10.1007/s41871-022-00140-y

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  • Critical dimension scanning electron microscope characterization of smoothly varying wave structures with MC simulation

    Muhammad Saadat Shakoor Khan, Yang Lihao, Deng Xiao, et al, Journal of Physics D: Applied Physics, 2021, 54(44):445301 (14pp).

    DOI:10.1088/1361-6463/ac0de5

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  • A new type of nanoscale reference grating manufactured by combined laser-focused atomic deposition and x-ray interference lithography and its use for calibrating a scanning electron microscope

    Deng Xiao, Dai Gaoliang, Liu Jie, et al, Ultramicroscopy, 2021,226.

    DOI: 10.1016/j.ultramic.2021.113293

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科研条件 research condition