椭偏仪
型号：SE-VE-L
品牌：品牌：武汉颐光科技有限公司
简介：设备基于单旋转补偿器调制技术一次性获取Psi/Delta、N/C/S等光谱，可实现基底上单层到多层薄膜的膜厚、光学常数的快速分析表征。光谱范围：400-800nm，入射角：65°，光斑大小：2-3mm，重复性测量精度：0.05nm（100nm硅基SiO2样件，30次重复测量），膜厚测量范围：0.1nm—10μm，单点测量时间：≤10s，光源：高性能进口卤素灯光源（卤素灯寿命：2,000h），可视化样品显微对准系统。具备单层、多层膜厚、光学常数（折射率、消光系数）分析能力；支持常用光学常数模型以及常用振子模型（柯西模型、洛伦兹模型、高斯模型等；并支持图形化多振子混合模型拟合功能；支持多组分薄膜与体材料光学常数、组分比例分析功能； 核心算法包含严格耦合波模型、等效介质模型。
