科学研究

朱静远了解详情

  • 职称:博士后
  • 联系方式:20310078@tongji.edu.cn
  • 办公室:闵行微纳实验室
  • 导师情况:

毕业于复旦大学信息科学与工程学院,主要从事以电子束光刻为核心的微纳加工技术及其微纳光学器件、X射线衍射元件的研究。参与国家自然科学基金联合培育项目、重大项目、173等科研项目,在Microelectronic Engineering、ECS Journal of Solid State Science and Technology、Chinese Physics B等期刊发表多篇SCI文章。

  • 个人经历
  • 研究方向
  • 开授课程
  • 科研项目
  • 学术成果
  • 荣誉及奖励

工作经历

2020年6月–至今,同济大学物理科学与工程学院,博士后

教育经历

2017.08 - 2020.07,复旦大学,微电子学与固体电子学专业,博士,导师:陈宜方

2014.09 - 2017.07,上海理工大学,光学工程专业,硕士,导师:张学典

2010.09 - 2014.07,上海理工大学,光电信息科学工程专业,学士

发展微纳光学器件的设计和纳米制备技术,开展实用型微纳光学器件的跨尺度制备技方法与极小尺寸X射线衍射元件的创新制备工艺研究,具体包括:阐明电子与物质之间的作用机理,创新大面积异形衬底的均匀甩胶工艺,发展针对不同特征尺寸纳米结构和大口径器件的电子束光刻误差调控方法,探索金属/介质材料微纳光学结构的沉积与刻蚀保形制备技术。

论文:

  1. Zhu J, Sun Z , Chen Y , et al. A Cost Effective Process for Large Area Photonic Array Applied in Light Emitting Diodes for Light Extraction Enhancement[J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2019, 8(9):R114-R118.

  2. Zhu J, Chen Y , Xie S , et al. Nanofabrication of 30 nm Au zone plates by e-beam lithography and pulse voltage electroplating for soft x-ray imaging[J]. Microelectronic Engineering, 2020, 225:111254.

  3. 朱静远,张思超,谢珊珊, et al. Nanofabrication of 50 nm zone plates through e-beam lithography with local proximity effect correction for x-ray imaging[J].中国物理B:英文版, 2020, 29(4):6.

  4. Zhu J, Zhang S, Lu B, et al. Comparison Study of Optical Sensing Property of Gratings with and without Lamellae Layers[J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2020, 9(4): 045006.

专利:

无衬底支撑的悬空厚金波带片透镜的制备方法

专利类型:发明专利

申请/专利号:CN109243662A

发明/设计人:陈宜方;李欣;徐晨;张思超;朱静远;谢珊珊;陆冰睿