精密光学工程技术研究所王占山和程鑫彬团队谢张宁，林子超，薛栋柏等人在《Measurement Science and Technology》杂志上发表题为“Study of interferometric signal correction methods in ultra-precision displacement measurement”的文章。
随着集成电路关键尺寸的测量已经从7nm向着5nm迈近，现有的铬原子光刻光栅节距周期不仅有着4700线/mm的刻线密度，也有着皮米级的均匀性，基于上述光栅的干涉信号周期也小至106.4nm，对信号的准确处理方法带来了新的问题与挑战。本文通过研究超高精度的光栅干涉信号误差特征，建立了用于高刻线密度光栅干涉信号的Heydemann修正数学模型，结合随机增量一致性算法（RANSAC）拟合的基础上修正光栅干涉仪信号，通过仿真验证了算法的有效性。通过比较原始算法和经过RANSAC处理的超高刻线密度光栅干涉位移测量数据的重复性、非线性，得到在10000nm的行程中经过RANSAC的超精密光栅干涉仪重复测量标准差低至2.09nm的结论，实现了用本文算法提升信号解算的稳定性与均匀性的目的，对激光干涉仪与光栅干涉仪的位移解算研究具有重要的借鉴意义。
图1光栅干涉仪原理图与误差修正图示
文章链接：https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6501/ad179b/meta
