2020年11月9日，同济大学在532nm纳秒激光损伤阈值水平国际竞赛中取得最佳结果。
在2020年高功率激光光学材料年会（SPIE Laser-Induced Damage in Optical Materials 2020）组织的532nm纳秒脉冲激光损伤阈值水平竞赛中，同济大学精密光学工程技术研究所研制的高性能反射膜样品获得最佳结果。每年举办的SPIE损伤阈值国际比赛，在美国Boulder举办，代表着光学材料激光损伤研究领域的国际最高水平。本次比赛对薄膜的技术指标要求如下：
中心波长 532 nm 处反射率 > 99.5%
• 入射角 0 度（偏振不敏感）
• 周围环境条件：温度 (20 ± 2 C◦) – 相对湿度 (40 ± 20%)
• 无反射波前或应力要求
共有来自中国、美国、立陶宛、德国、英国等6多国家的16家单位参赛，包括美国Alpine Research Optics，Colorado State University，LaCroix Precision Optics，Omega Optical 和PFG Precision Optics，立陶宛的Altechna和Altechna Coatings，德国的Asphericon，Laser Components，Laserhof Frielingen GmbH，LaserOptik GmbH，Layertec和Laser Zentrum Hannover, e.V，英国的SLS Optics，以及中科院上海光机所、中国工程物理研究院激光聚变研究中心。
损伤阈值水平采用双盲测试，可以保证样品的和提交者的匿名性。由非技术人员将所有参赛样品统一包装、并以字母进行编号，再将样品送至Spica Technologies, Inc.进行测试。测试激光参数如下：波长532nm、脉宽6ns、入射角度0°；测试方法为光栅扫描。
图1所示的阈值测试结果表明上同济大学的532nm反射膜在激光能量密度低于27J/cm2时，膜层没有任何损伤。
图1 532nm反射膜激光损伤阈值国际评比结果，标五角星(编号N1)的为同济大学的参赛样品。
