科学研究

一种用于实现分步沉积型二维原子光刻的装置

发布时间:2020-06-26 发布者: 来源: 浏览:

专利类型:发明专利

申请/专利号:CN201810548512.X

发明/设计人:程鑫彬 邓晓 李同保 刘杰 朱立