原子层沉积
型号：NCE-200R
品牌：纳峰微电子装备公司
简介：原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种通过化学反应将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法，是化学气相沉积的一种。其特点是以重基于表面化学反应、自限制生长的气相成膜技术。和传统的物理气相沉积不同，原子层沉积具有延结构侧壁生长的特性，因此能够很好的填充各种孔洞及缺陷。同时得益于原子成膜的方式，其对膜层厚度的控制精度非常高，可达到0.1nm以上。原子层沉积一把用来生长化合物，主要包括TiO2、HfO2、Al2O3等
