反应离子刻蚀机
型号：PlasmaPro100 Cobra
品牌：Oxford Instruments
简介：反应离子刻蚀是一种各向异性很强、选择性高的干法刻蚀技术。它是在真空系统中利用分子气体等离子来进行刻蚀的，利用了离子诱导化学反应来实现各向异性刻蚀。最大刻蚀面积为8英寸晶圆，刻蚀材料包括常规氧化物、硅及硅基材料，支持气体包括各种氟基气体、氩气。同时可以利用低温实现零下低温刻蚀，最大刻蚀深宽比大于20：1。
