电子束光刻机
型号：EBPG 5200
品牌：Raith
简介：主要用于微纳光学器件、光刻/纳米压印掩模版的的图形化曝光工作。通过电磁透镜对电子枪出射的电子束进行聚焦，形成高分辨率的高斯型电子束斑，对衬底上的光刻胶进行曝光。是一种灵活、自动化程度高的无掩膜曝光设备。工作电压为100kV，束流大小从0.1nA至200pA，最小束斑尺寸≤3nm。曝光最小线宽7.8nm；最大加工面积可达8英寸晶圆或者6英寸掩模版；电子束最大曝光写场为1mm*1mm，最大时钟频率为125MHz。
