设备名称：双离子束溅射镀膜机
型号: veeco
设备介绍：用离子源发出离子,经引出、加速、聚焦,使其成为束状,用此离子束轰击置于高真空的靶,将溅射出的原子进行镀膜。IBS (离子束溅射)镀膜光学元件能帮助需求严苛的激光光学应用实现可能达到的最高性能。这些光学元件上的薄膜具有密集、无孔且均勺的镀膜层,因此具有无漂移且对温度不敏感的性能。镀后光学元件几乎没有表面缺陷,因此镀膜在处理光线时可能产生的吸收和散射最低。
技术指标：反射率大于99.99%且具有高激光损伤阙值的激光反射镜、具有低损耗激光透镜激光窗口片,以及能耐受激光高能量且具备急剧转换能力的激光滤光片。
