设备名称：大尺寸光学元件超声波清洗设备
型号：tc-3.0
技术指标：全自动运行模式:清洗溶液温度精确控制(士1.0℃);多频超声波清洗:40KHz至270KHz,7槽体多功能集成:溶液清洗-去离子水喷淋-去离子水漂洗-热吹风烘干基板尺寸(长×宽×厚) <700mmX 600mmX 70mm功能基板的高洁净度清洗。
应用范围：(1)半导体领域(单晶硅基板的清洗)； (2)光学领域(各种尺寸光学基板的高洁净度清洗。
