【学术报告】王洪涛:双光子光刻3D光子器件与光学防伪
飞秒激光驱动的双光子聚合光刻(Two-photon Polymerization Lithography,TPL)技术,代表了纳米制造与纳米光子学设计的革命性突破。该方法能够精确构建具有复杂三维结构和纳米级分辨率的光子器件,为新一代光子系统提供了前所未有的自由度,尤其在大带宽、高度可定制色散,以及低成本大规模平面光子器件方面展现出巨大潜力。当前的光学防伪技术已逐渐落后,传统的防伪标签和防伪方式日益面临被破解的风险。为提升光学信息安全性,我们开发了基于双光子3D光刻的纳米光子器件,可生成高维结构光,实现更高级别的光学防伪应用。通过精确调控高维结构光束在空间的产生和传播TPL技术有望升级信息安全防护,为光通信、信息加密等前沿应用领域提供高安全性多功能的光子解决方案。

