课程名称：电子束光刻技术
总学时：10-12课时（每课1小时）
授课时间：2022年5月30日- 6月12日
课程简介：
本课程是基于复旦大学陈宜方教授32年的电子束光刻实战经验和积累、针对同济大学的实际情况与需求而专门组织准备的。讲授内容力求系统性，包含：原理、设备性能、光刻条件、光刻胶性能、理论模拟、工艺和应用等方面。适合于所有理工科学科的研究生、博士生和工程技术人员。
教学目标：
1. 掌握电子束光刻的基础知识和光刻原理；
2. 了解电子束光刻设备的内部结构以及性能指标对于光刻结果的影响；
3. 学会电子束光刻的整个工艺过程，以及进一步提高光刻质量的努力方向与手段；
4. 学会电子束光刻胶的工艺和应用
5. 掌握光刻结果的判断能力和解决问题的能力
课程内容及进度安排：
课次 |
教学内容 |
课时 |
简介 |
1 |
电子束光刻基本原理 |
1 |
高能电子与固体的相互作用、散射过程、曝光机理和性能、应用范围 |
2 |
曝光机内部构造和性能指标 |
1 |
曝光机内部构造、曝光方式、性能技术指标、曝光条件设定原理 |
3 |
电子束光刻理论模拟和邻近效应修正 |
1 |
电子束曝光的理论模拟计算和处理方法、光刻形貌的模拟计算原理、邻近效应修正方法 |
4 |
电子束光刻工艺流程 |
1 |
胶厚度定标、对比度曲线、热显影效果 |
5 |
电子束光刻表征方法 |
2 |
灵敏度和对比度表征，形貌控制表征 |
6 |
常用电子束光刻胶的光刻性能 |
2 |
八种电子束常用光刻胶性能及其应用范畴、胶相互关系 |
7 |
多层电子束光刻工艺 |
1 |
单层、多层胶的形貌控制 |
8 |
电子束光刻的技术问题 |
1 |
纳米线条光刻胶倒塌、粘结力、粗糙度、最小分辨率光刻 |
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总课时 |
10 |
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注：总课时可能会根据上课具体内容和进展有所微调。
