2025年7月20日至22日，第十一届国际先进光学制造与检测学术会议（AOMATT2025）在中国成都隆重召开。该会议由四川省光学学会、中国科学院光电研究所、中国光学学会光学制造技术专业委员会主办，天府兴隆湖实验室和中国电子科技集团公司第二十九研究所承办，汇聚了国内外光学制造与检测领域的顶尖专家学者。
会议涵盖大会报告、邀请报告、海报展示等多种学术交流形式，并设立多个分会场，其中第三分会场以“极端微纳制造”为主题，聚焦先进微纳加工技术的前沿发展。程鑫彬教授担任本次大会第三分会场的主席，主持了极端微纳制造方向的多场学术交流活动，促进了该领域专家学者的深入研讨和合作。朱静远老师担任该分会场秘书，协助程鑫彬教授及AOMATT会务组做好分会场3的组织和协调工作。
在程鑫彬老师带领下，同济大学物理科学与工程学院精密光学工程技术研究所闵行实验室组织多位研究生参会交流。
毛清源同学与刘亮同学分别在分会场作了题为《Proximity effect correction in electron beam lithography using a composite function model of electron scattering energy distribution》和《Optimizing and well-Controlled Grayscale Electron Beam Lithography for Planar Dual Blazed Grating Fabrication》的口头报告，并荣获大会颁发的“国际新秀奖”。 该奖项面向首次参加国际学术会议的研究生，全国共评选20名，旨在鼓励和培养具有科研潜力的青年学术人才。
此外，周思量同学与梁晓佳同学分别在墙报展示环节中展示了题为《Broadband perfect Littrow diffraction metasurface under large-angle incidence》和《Pixel-wise polarization integrated HgCdTe photodetectors》的研究成果，展现了课题组在先进光学制造方向的研究积累与创新思路。吴佳玮同学与张晓东同学也随队参会，认真聆听了多场大会报告与分会场交流，积极参与学术讨论，进一步拓展了科研视野，增强了对本领域前沿动态的理解。
此次参会与获奖，体现了同济大学精密光学工程技术研究所在光学制造领域的科研水平与在青年人才培养方面的坚实成果。
