光学纳米计量与测试-同济大学精密光学工程技术研究所

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光学纳米计量与测试

“米”是国际7个基本单位之一。纳米科技是现代科学与技术进步的重要引擎。纳米科技的关键是“纳米尺度”，对“纳米”的长度计量、测试与控制是发展纳米科技的基石。本方向研究自然常数的物化原理与方法，研制高精度光栅标准物质，发展超精密位移测试技术，立足于构建自溯源型的纳米长度计量体系，实现量值传递扁平化。

科研团队Research team

教师团队查看更多: 程鑫彬
职称：教授
程鑫彬，同济大学物理科学与工程学院教授、博士生导师，精密光学工程技术研究所所长，国家杰出青年基金获得者，获国家技术发明奖二等奖，获得中国专利金奖，激光薄膜技术实现成果转化。主要从事微纳智能感知、强激光器件和纳米计量方面的研究。承担国家重大科技专项、国家重点研发计划、国家自然科学基金等科研项目十余项，以第一/通讯作者发表Light: Science & Applications、Optica、Optics Letters等三十余篇文章。

邓晓
职称：副教授
邓晓，男，分别于2011年、2016年在同济大学物理学院获学士与博士学位；读博期间以客座研究员身份赴美国国家标准与技术研究院（NIST）留学两年（2014.08~2016.07）。2016年12月进入同济大学航力学院从事博士后研究。2019年起历任同济大学物理学院助理教授、副教授。2021年入选中国科协“第六届青年人才托举工程”，是全国新材料与纳米计量技术委员会委员。主要研究方向为纳米长度计量，具体包括原子光刻、光栅干涉仪、MOEMS加速度计等技术。所研制光栅获批国家一级标准物质2项、国家二级标准物质2项。共发表SCI论文18篇（含一作/通讯共13篇）；申请中国发明专利6项（授权3项）；申请美国发明专利2项；完成软件著作权登记4项；在国际学术会议作口头报告2次。

顾振杰
职称：博士后
博士毕业于华东师范大学物理与材料科学学院，主要从事冷原子物理与量子光学的交叉领域，如单光子态制备与表征、量子干涉等研究。目前从事基于原子光刻技术的计量型原子沉积光栅制备以及基于精密光栅的纳米位移测量研究。在Physcial Review Letters、Physical Review Applied、Physical Review A、Optics Communications等期刊发表多篇SCI论文。

李同保
职称：院士
李同保，同济大学物理与科学工程学院教授，博士生导师，中国首批工程院院士。

王占山
职称：教授
王占山，精密光学工程技术研究所创始人，同济大学先进技术研究院院长，同济大学高等研究院执行副院长，同济大学学术委员会秘书长，先进微结构材料教育部重点实验室主任，上海市数字光学前沿科学研究基地主任，上海市全光谱高性能光学薄膜器件与应用专业技术服务平台主任，国家某重大专项专家委员会委员，国家自然科学基金委员会信息学部咨询委委员，国家重点研发技术专家组成员；上海市第十次党代会代表，国际光学与光子学学会会士（SPIE Fellow），中国光学学会会士，中国光学学会理事会理事，中国光学工程学会常务理事，中国光学学会光学薄膜专业委员会副主任，物理科学与工程学院教授，教育部长江学者特聘教授，先后主持了国家自然科学基金重大、创新研究群体、杰出青年基金、国家重大专项、重点研发计划等项目，先后发表Light，Optical Letters等SCI收录论文200余篇，获授权专利100余项，其中“一种激光薄膜的制备方法”获2018年中国专利金奖，含该专利在内的5项专利实现转让，获收益3800万元。2019年获国家技术发明奖二等奖（排名1），2016年获国家技术发明奖二等奖（排名2），2021年获中国仪器仪表学会技术发明奖一等奖（排名1），2015年获教育部技术发明奖一等奖（排名1），2011年获上海市技术发明奖二等奖（排名1）。多次在境外国际会议上有邀请报告，担任多个境外国际会议程序委员会委员。任《光子学报》副主编，《光学学报》、《光学精密工程》、《中国光学》编委。

姚玉林
职称：科研助理
姚玉林，同济大学精密光学工程技术研究所科研助理，主要从事位移传感应用方面的研究。

学生团队查看更多

唐朝辉

2019级博士研究生
林子超

2020级博士研究生
谢张宁

2021级博士研究生
肖光旭

2022级博士研究生
周通

2022级博士研究生

科研成果 Research achievements

论文与专著查看更多

Scanning and Splicing Atom Lithography for Self-traceable Nanograting Fabrication

Deng Xiao, Tan Wen, Tang Zhaohui, et al， Nanomanuf Metrol 5, 179–187（2022）

DOI：10.1007/s41871-022-00140-y

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Critical dimension scanning electron microscope characterization of smoothly varying wave structures with MC simulation

Muhammad Saadat Shakoor Khan, Yang Lihao, Deng Xiao, et al, Journal of Physics D: Applied Physics, 2021, 54(44):445301 (14pp).

DOI：10.1088/1361-6463/ac0de5

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A new type of nanoscale reference grating manufactured by combined laser-focused atomic deposition and x-ray interference lithography and its use for calibrating a scanning electron microscope

Deng Xiao, Dai Gaoliang, Liu Jie, et al, Ultramicroscopy, 2021,226.

DOI： 10.1016/j.ultramic.2021.113293

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Hybrid application of laser-focused atomic deposition and extreme ultraviolet interference lithography methods for manufacturing of self-traceable nanogratings

Liu Jie, Zhao Jun, Deng Xiao, et al, Nanotechnology, 2021, 32(17):175301-.

DOI：10.1088/1361-6528/abdcec

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